田洪濤,王嘉琪,劉志偉,吳燕林
(中國電子科技集團公司第四十五研究所,北京 100176)
半導體專用設備主要用于晶體硅、脆硬材料的大批量自動生產,半導體專用設備是工藝性極強的設備,在CMP設備中,晶圓先要經過研磨工藝單元,然后進入清洗工藝單元,經過數次加工和傳遞后回到卡盒。
在研磨工藝單元中最多可同時加工4個晶圓,晶圓加工完畢后,需要立即被傳入清洗工藝單元,否則晶圓有長時間未被藥液浸泡而受損的風險。
在清洗工藝單元中,各個工藝工位中晶圓能夠得到藥液的浸泡,是安全的。用來傳遞清洗工藝單元的機械手不具備浸泡晶圓的功能,所以晶圓長時間停留在機械手上也會有受損的風險。
在正常加工過程中,各個工藝單元能夠保證晶圓的安全,但在有模塊出現故障導致無法完成正常傳片流程時,未能保持濕潤狀態的晶圓將會有長時間暴露在空氣中而受損的風險。緩存區工位可以起到暫存晶圓的作用,將有風險的晶圓收納到緩存區進行浸泡保護。各模組的分布示意如圖1所示。
圖1 模組流程圖
緩存區采用水箱設計,能夠使晶圓始終浸泡在藥液中保證晶圓的安全。箱體有進液口和排液口,可用來控制緩存區的液位高低。箱體上方有溢水口,可針對某些特殊工藝實現緩存區液體不斷循環的功能。清洗模組的機械手可以到達緩存區,并可在緩存區進行取放晶圓的操作[1]。
緩存區有5個工位,啟用后會一直進行液位控制,使緩存區中的液位處于保護晶圓的最佳狀態,可以作為臨時存放晶圓的安全工位。緩存區使用過程中,如果有晶圓需要進入緩存區,會按照從1到5的順序接收晶圓,系統會記錄每一個晶圓先前的加工順序和位置。待機臺故障修復后,再由緩存區將晶圓傳輸到下一個工藝工位,進行正常的順序加工。不僅可以保護機臺內部晶圓的安全,還可以第一時間恢復機臺的傳片流程。
緩存區工作啟用分4種情況。
(1)研磨區晶圓長時間無法進入清洗區時啟用緩存區
晶圓在研磨區加工完畢后,需要立即被傳入清洗工藝單元,否則晶圓有長時間未被藥液浸泡而受損的風險。該方法會提供一個超時設定供用戶選擇,當清洗1號工位的晶圓加工完畢后調度系統便會開始計時,如果該晶圓在清洗1號工位等待被傳輸到2號工位的時間超過設定值后,機械手會將晶圓從1號工位中取出,放入緩存區工位,這樣清洗區域會騰出一個位置供研磨區的晶圓進入,該種情況最多支持4片晶圓進入緩存區,最大限度保證研磨區晶圓的安全[2]。
待后續工位正常傳片后,機械手再從緩存區工位將晶圓取出,放入清洗2號工位,依次加工,如圖2所示。
圖2 超時啟用緩存區
(2)清洗區域有故障時啟用緩存區
當清洗區域工位出現故障,造成傳片流程受阻,此時系統會檢測清洗1號工位是否存在晶圓,如果存在晶圓,則不受用戶設定時間限制,直接將晶圓傳輸到緩存區,第一時間為研磨區的晶圓提供位置,此種情況緩存區最多支持4片晶圓的放入,保證了研磨區中所有晶圓的安全。
待后續工位解除故障后,機械手再從緩存區工位將晶圓取出,將緩存區的晶圓逐一放入清洗2號工位進行加工,如圖3所示。
圖3 故障啟用緩存區
(3)機械手中的晶圓待放入工位有故障時啟用緩存區
為了提高整體傳片效率,晶圓在清洗區域傳遞時,機械手會提前將晶圓從前一個工位中取出,等候在下一個工位上方。如果待放入工位出現故障,導致該晶圓無法正常放入下一個工位,機械手會第一時間將晶圓傳輸到緩存區,并且系統會記錄該晶圓當前的加工位置。
待故障修復后,被傳輸到緩存區的晶圓會根據先前記錄的位置,自動傳輸到下一個工藝工位中進行順序加工,如圖4所示。
圖4 待放入工位有故障時啟用緩存區
(4)外部故障觸發后啟用緩存區
當機臺有外部故障觸發,如:機臺卡盒端的傳輸裝置出現故障,或者操作人員人為的下線某一個模塊,導致機臺內部的晶圓也無法被傳回卡盒,此時調度系統會收到故障消息,清洗1號工位的晶圓將不受時間限制,直接被機械手傳輸到緩存區,給研磨區的晶圓讓出位置,最大限度保護所有晶圓的安全。
待故障修復后,機械手再從緩存區工位將晶圓取出,放入清洗2號工位,依次加工,如圖5所示。
圖5 外部故障啟用緩存區
為了適用不同的工藝需求,調度系統還提供了優先關系的功能。用戶可選擇優先傳輸緩存區或優先常規流程兩種方式。當緩存區和清洗1號工位同時有晶圓待取出,此時系統會根據用戶事先設定的優先關系進行調度。
如果用戶選擇優先緩存區,則此時緩存區中的晶圓會先被取出進行順序依次加工。清洗1號工位的晶圓需等待2號工位空閑后才會被傳輸到2號工位。
如果用戶選擇優先常規流程,此時系統會優先將清洗1號工位晶圓挪至2號工位進行加工。待2號工位空閑后,緩存區的晶圓才會被挪至2號工位進行后續的加工。
通過采用該緩存區以及合理設計緩存區的調度方法,可以最大限度的解決CMP設備傳片流程異常時機臺內部晶圓的安全問題,保證了晶圓的良品率[3]。同時系統會計算晶圓的加工位置,為快速恢復常規流程提供了保障。