線寬
- 銅箔類型對高速PCB線寬蝕刻精度的影響研究
的計算公式可知，線寬是影響阻抗的重要因素之一。當走線寬度變化0.025 mm 時，阻抗將變化5～6 Ω。在實際的PCB 制造中，如果選擇銅厚18 μm 的銅箔作為信號平面控制阻抗，則允許的走線寬度公差為±0.015 mm。如果選擇銅厚35 μm的銅箔作為信號平面控制阻抗，則允許的走線寬度公差為±0.030 mm。線寬過寬或過窄，會導致線路的實際阻抗與期望值不同，阻抗不匹配又會導致傳輸線上任何不連續處的信號反射。這些反射會干擾原始信號，并導致信號完整性下降。
印制電路信息 2023年9期2023-09-25
- 導線間距變化對阻抗的影響探討
板上分別設計不同線寬大小、不同的線到銅間距的阻抗，測試驗證各種線寬下，線到銅間距的變化對阻抗的影響。通常情況下，阻抗線到銅間距設計為0.50 mm。不同線到銅間距的阻抗量測數據見表2。表2 不同線到銅間距的阻抗量測數據3.1.1 驗證分析①隨著線到銅的距離變大，對應的阻抗也不斷變大，當線到銅距離變大到一定程度時，阻抗基本不變。② 線寬≤0.175 mm 的阻抗，線到銅的距離是線寬的3 倍（約0.50 mm）以上時，阻抗基本不變；線到銅的距離是線寬的2 倍以
印制電路信息 2023年9期2023-09-25
- 基于平移差分的微結構線寬顯微測量方法
寸主要包括深度、線寬和側壁角等。對于微電子機械系統（Micro-Electro-Mechanical System，MEMS）［1］、印制電路板［2］等具有的溝槽型結構，線寬一般為具有階躍邊緣的結構頂部最小幾何特征尺寸，其尺度覆蓋數微米至幾十微米范圍。在微電子機械系統中，線寬誤差將導致MEMS器件靈敏度下降，穩定性降低，影響產品性能；在印制電路板中，線寬是保證電路連接可靠性、阻抗板阻抗值滿足要求的關鍵。因此，線寬作為微結構器件的關鍵指標之一，對微米尺度的線
光子學報 2023年2期2023-03-06
- 1550 nm高功率窄線寬光纖放大器的特性研究
00)0 引言窄線寬光纖放大器具有可靠性高、壽命長、小型化、模塊化、價格低、使用及維護方便等優點，在整機系統中與固體激光器和氣體激光器相比具有較大優勢.因此在激光雷達、激光測距、光電傳感等領域有廣泛的應用[1-5].對于激光雷達系統來說，激光器的輸出穩定度直接決定系統的功能和性能，其輸出能量和線寬分別決定了雷達系統的探測距離和探測精度，是激光器的重要指標之一.隨著泵浦激光二極管和摻雜光纖技術的進步，窄線寬光纖放大器的輸出功率和光-光轉換效率都得到了較大提升
南陽師范學院學報 2022年6期2023-01-17
- 減成法工藝下非電鍍線路的精準加工方法
路寬度（以下簡稱線寬）[2]。在理想的情況下，只要把線寬做到與客戶所設計的一致，就能達到阻抗的精準控制，但是在實際生產的情況下，線寬受非常多的因素影響，所以要把線寬做到與客戶所設計的完全一致是一件非常具有挑戰性的事情。因此，本文以公司內部的實際情況為例，探討了非電鍍層18 μm（0.5 oz）高精準度線路的加工方法。1 實驗部分1.1 實驗數據處理說明本文中的線寬精準度用過程能力指數（Process capability index，Cpk）表示，其計算方
印制電路信息 2022年11期2022-11-30
- 倒Y 型四能級系統中吸收譜線的窄化極限研究*
探測光吸收譜線的線寬窄化極限.發現得益于中間激發態與另一超精細基態之間施加的第三束控制光,線寬窄化極限的限制條件轉變為兩個基態能級之間的相干衰減率,而非基態與高激發態之間.與傳統的梯型結構相比,吸收光譜線寬的窄化極限能夠提高2 個數量級.研究表明,通過適當調節這束控制光的拉比頻率和失諧量,可以獲得兼具超窄線寬和高對比度的吸收光譜信號.數值計算結果與理論分析完全相符.此外,還討論了吸收譜線對光場的響應規律和多普勒效應的影響.對原子熱運動的研究發現,倒Y 模型
物理學報 2022年19期2022-10-16
- 窄線寬激光器技術及進展（特邀）
光波長、功率以及線寬等參數性能不斷提升，推動了制造業、生命科學、信息技術、科學研究和國防等領域的快速發展［3-7］。其中，激光線寬是決定激光相干性的關鍵因素，一直是科學家們研究激光技術的重點。激光線寬存在的本質在于激光運轉過程中會受到增益介質中自發輻射引起的相位和強度擾動影響，使得激光輸出信號的頻率存在高斯白噪聲，從而引起激光譜線呈現洛倫茲線型的本征展寬［8-10］。此外，激光器也容易受到外部環境中溫度變化和振動帶來的經典噪聲的影響，進一步拓寬了激光線寬。
光子學報 2022年8期2022-09-23
- 印制板制造中量化蝕刻研究
是線路寬度（簡稱線寬）和介質層厚度（簡稱介厚）[4]-[9]。在理想的情況下，只要把線路寬度和介質層厚度做到與客戶所設計的一致，就能達到阻抗匹配的目的，但是在實際生產的情況下，要把線路寬度和介質層厚度做到與客戶所設計的一致是一件非常具有挑戰性的事情。目前，行業內大多是通過控制蝕刻首件的線路寬度來控制批量件的線寬[9]-[14]，其管控的首件線寬公差通常為客戶設計線寬值±5%到±10%，一般做1到3次首件才能達到管控要求，而以此首件參數加工的批量件線寬分布可
印制電路信息 2022年6期2022-08-03
- 線性圖標內部特征對視覺搜索的影響機理
式[2]，圖標的線寬是已知會影響其易讀性的關鍵變量[3]，但這種變量對視覺搜索效率的影響機理尚不明確。眾多學者研究圖標類型對圖標易讀性的影響機制，但學界對于線性圖標的內部特征及其影響機理鮮有研究。Lin等[4]通過置換和組合，以線性、面性圖標以及正負背景的6種組合形式作為素材，研究捕獲注意的最佳呈現方式。胡瑩[5]以線性圖標和面性圖標兩種不同的圖標類型，探究其對視覺注意力和舒適度的影響機理，結果表明，圖標的邊框形狀能從不同程度上捕獲視覺注意，但其實驗限定了
科學技術與工程 2022年18期2022-07-23
- 基于半導體激光器窄線寬光子微波信號獲取
波信號具有較大的線寬，這將影響P1微波信號的實際應用[12-14]。因此，如何降低P1微波線寬是一個亟待解決的問題。目前，關于P1微波線寬窄化的研究已經有一些報道[15-20]。例如，JI和XUE等人在一個光注入下的垂直腔面發射激光器中引入了兩個光反饋環路來降低產生的P1微波信號的線寬，通過恰當調節兩個環的反饋參量，微波線寬至少能降低兩個數量級[16-17]。SIMPSON等人在一個光注入下的分布式反饋(distributed feedback，DFB)激
激光技術 2022年4期2022-07-11
- NiFe-YIG顆粒膜中鐵磁共振線寬的角度依賴性*
磁共振(FMR)線寬對基礎理論研究和高頻應用都有重要的意義。一般對于磁性薄膜來說，對FMR線寬的貢獻包括本征效應和非本征效應，本征效應為吉爾伯特阻尼，它起源于自旋軌道弛豫和磁振子-聲子的相互作用；非本征效應包括非均勻展寬、雙磁子散射及鑲嵌效應導致的線寬展寬，非均勻效應展寬是與頻率無關的；雙磁子散射效應指的是波矢為0的鐵磁共振模式被激發為波矢不為0的自旋波模式，一般是由薄膜內部的短程缺陷激發；鑲嵌效應則一般由長程缺陷激發[1-9]。本文主要通過鐵磁共振面外轉
功能材料 2022年6期2022-07-08
- 生產過程中的PCB線寬分析研究
加、器件的密集、線寬線距細化等[1]。相應的，PCB生產制作的安全可靠性要求也越來越高，PCB線寬的保證是電路連接可靠性、阻抗板阻抗值滿足要求的關鍵。為了更好地控制實際生產線寬、提前進行線寬工藝補償，為生產提供理論指導，在印制板生產過程中，研究各工序對線寬的生產加工能力、建立各工序對線寬生產的影響關系十分必要[2]。PCB生產過程中影響線寬變化的主要工序有工程前處理、光繪、圖形轉移和蝕刻[3]。本文分別從該4道工序出發，研究其對線寬的影響關系。1 工程處理
科技與創新 2022年11期2022-06-13
- 回音壁微腔激光器噪聲特性數值模擬研究（特邀）
［1］。而激光的線寬，即激光單模光譜的半高全寬，可以由頻率噪聲譜低頻處的頻率噪聲確定。在光纖通信中，通信系統的容量與光源的譜寬成反比［6］。在相干光通信中，采用窄線寬光源可以降低誤碼率［7］，而相干探測器和高分辨率光譜也要求使用窄線寬的激光器［8-9］。但是實驗結果表明，除非采取額外措施，半導體激光器的線寬通常大于1 MHz，這比大多數相干通信系統所需要的線寬要寬［1］。因此，實現窄線寬半導體激光器也是當下研究的重點。為了能夠數值分析半導體激光器的噪聲與線
光子學報 2022年2期2022-03-24
- 高速印制電路板外層蝕刻線寬均勻性提升探討
度的發展，對蝕刻線寬均勻性能力提出較高挑戰。其表現在存儲器、高端路由器、高端服務器等為代表的產品,阻抗控制到±8%，甚至更低，這對PCB線寬能力要求必須達到±8.89 μm，Cpk≥1.33，其阻抗才能滿足±8%要求。但當前有些蝕刻線設計水平在10年前，蝕刻段設計噴嘴類型和排布設計比較單一，不適合高速PCB的密集線路的生產。本文從實際生產PCB外層板（標準設計銅厚55 μm，線路101.6 μm/101.6 μm）過程中遇到的線寬均勻性問題，經模擬驗證，在
印制電路信息 2022年2期2022-02-25
- 基于真空蝕刻線的外層蝕刻模型建立
外層蝕刻參數以及線寬調整依賴員工經驗，未能基于產品類型的變化適時調整。因此，充分了解和掌握蝕刻液中的蝕刻機理，并通過嚴格的實驗驗證，測定出不同銅厚規格對應的工藝參數，并能夠精準量化各變量帶來的影響，才能更好地把控外層蝕刻這一關鍵工序。2 機理分析及蝕刻模型建立2.1 機理分析真空蝕刻線為水平傳送線，采用上下噴淋蝕刻液的方式完成蝕刻過程，并通過板件上方負壓口抽去表面藥水而減少了水池效應的發生，具有良好的蝕刻均一性。通常真空蝕刻采用酸性氯化銅蝕刻藥水。在傳統認
印制電路信息 2022年12期2022-02-08
- 基于多層膜沉積的循跡式線寬標準樣片
即為芯片上的最小線寬，也稱為關鍵尺寸。隨著器件特征尺寸進入納米量級，關鍵尺寸不斷縮小，目前在微電子領域，混合電路工藝制程中，最小線條已經達到100 nm以內；而大規模集成電路的工藝制程中，最小線條尺寸已經達到 50 nm 以內[1]。這就使得工藝加工過程中的允許公差相應減小，對線寬測量范圍和精度要求也不斷提高。關鍵尺寸測量儀器，主要用于觀察、分析在微米或納米范圍內所發生的物理、化學現象和相關參量的準確測量[2]。在微電子行業中，其最直接的應用是解決芯片制造
計量學報 2022年12期2022-02-02
- 795 nm 亞波長光柵耦合腔垂直腔面發射激光器的超窄線寬特性*
方法對多光腔耦合線寬壓窄機制和影響因素進行了詳細分析,研究發現,當光子在多耦合腔中進行諧振時,通過合理設計光柵耦合腔參數,精確調控激光器多耦合腔相位匹配,極大地促進了光譜線寬共振壓窄效應,并最終獲得了高光束質量795 nm VCSEL 激光器的超窄線寬輸出.理論結果表明,當耦合腔間隔層厚度為180 nm 時,反射光譜冷腔線寬Δλc 可以達到7 pm,為實現VCSEL 激光器kHz 量級光譜線寬輸出奠定了理論基礎.1 引言隨著大數據時代的來臨,光網絡信息處理
物理學報 2021年22期2021-12-09
- 納米級線寬標準樣片的設計與制備*
是使用單一線條的線寬標準樣片來校準相關儀器，線寬標準樣片的標稱值從25nm～1000nm［4～6］。以掃描電子顯微鏡為例，其放大倍數從幾十倍到幾十萬倍，線寬標準樣片可實現掃描電子顯微鏡最大放大倍數下的量值校準，確保儀器的測量準確度。然而，線寬標準樣片是單一線條的樣片，即在一塊厘米量級的晶片上通過半導體工藝加工出單一量值的線條，如晶片尺寸為10mm×10mm。當掃描電子顯微鏡的放大倍數達到十萬倍量級時，其視場尺寸僅為微米量級，該視場的大小僅為線寬標準樣片大小
計算機與數字工程 2021年4期2021-10-09
- 高精度線路制作影響因素分析
領域高頻高速板對線寬精度要求非常嚴。細線路的制作主要依賴于生產設備和工藝技術兩大關鍵因素。精密生產設備通常價格昂貴，利用常規PCB生產設備制作精細線路，工藝技術就顯得尤為重要。PCB生產流程長、涉及工序多、且工藝較為復雜，僅線路制作這一項就涉及工程設計、基銅銅厚控制、電鍍銅厚以及電鍍均勻性控制、干膜解析度控制、蝕刻均勻性控制等多種因素。通訊5G天線板客戶產品對線寬要求非常嚴格，要求整板線寬公差為±15 μm。文章結合我公司實際情況針對線路制作精度的影響因素
印制電路信息 2021年9期2021-09-20
- 利用鐘躍遷譜線測量超穩光學參考腔的零溫漂點*
定性較好的超穩窄線寬激光.超穩光學參考腔的腔長穩定性決定了最終激光頻率的穩定度.為了降低腔長對溫度的敏感性, 使激光頻率具有更好的穩定度和更小的頻率漂移, 利用鍶原子光晶格鐘的鐘躍遷譜線, 測量了698 nm 超穩窄線寬激光系統中超穩光學參考腔的零溫漂點.通過對鐘躍遷譜線中心頻率隨溫度的變化曲線進行二階多項式擬合, 得到698 nm 超穩窄線寬激光系統的零溫漂點為30.63 ℃.利用鍶原子光晶格鐘的閉環鎖定, 測得零溫漂點處698 nm 超穩窄線寬激光系統
物理學報 2021年7期2021-05-07
- 窄線寬1 064 nm 光纖激光泵浦高效率中紅外3.8 μm MgO:PPLN 光參量振蕩器
束質量惡化、輸出線寬展寬，這些因素使得該方面的研究相對較少。同時PPLN 晶體在中遠紅外波段（大于4μm）存在的光子吸收，最終導致目前的長波閑頻光輸出大多限制在1 W 左右[15]。2013 年，清華大學柳強等人報道了由高功率摻鐿光纖MOPA 結構泵浦MgO:PPLN OPO 產生4μm 中紅外激光輸出[16]，在泵浦功率為18.5 W 時，獲得了2.03 W、4μm 的激光輸出，線寬為0.16 nm，斜率效率為11%。但是該研究中部分泵浦被反射回最后一級
中國光學 2021年2期2021-04-20
- LDI曝光機分辨率對制作細線路的影響
性的文件。不同的線寬和線距在轉換過程中，就有可能在兩種格式存在不完全相等的可能性。例如，一臺曝光機的解析度為3.175 μm，即最小pixel，如果設計的線寬線距是30 μm/30 μm，9個pixel即3.175×9=28.575 μm，10個pixel即3.175×10=31.75 μm，如此是不能整除解析度單位，但曝光機的原理是要首先保證設計的線寬屬性，即最終出來的是線寬是31.75 μm，線距是28.575 μm，但31.75+28.575=60.
印制電路信息 2020年11期2021-01-11
- 基于高斯相位調制的半導體激光器線寬展寬方法
強度噪聲小，結合線寬調制展寬技術有潛力逼近陀螺理論精度[1-3]。激光器驅動技術將是新一代干涉型光纖陀螺發展的方向，具有重要的學術與工程研究價值[1]。美國斯坦福大學的Michel J.F.Digonnet 課題組是研究激光器驅動干涉型光纖陀螺的先驅，對半導體激光器各類展寬機理及陀螺級應用做出了一定的理論分析與應用[2-4]。國內基于半導體激光器線寬展寬的研究較少，2017年，天津航海儀器研究所的張桂才對半導體激光器的幾種線寬展寬方案進行了理論分析和評估[
中國慣性技術學報 2020年3期2020-10-17
- 撓性印制板高精度阻抗設計影響因素研究
許多因素影響，如線寬、覆蓋膜厚度、PI（聚酰亞胺）厚度、不同電磁膜、不同參考層等一種或多種材料和設計搭配等，阻抗難以精確管控?，F通過試驗不同參考層相同線寬、參考層相同不同線寬、同等規格不同供應商基材、不同基材PI厚度，以及不同品牌型號屏蔽膜、不同覆蓋膜膠厚等因素對阻抗的影響，為FPC高精度阻抗設計提供最佳建議方案。1 試驗方法1.1 設備與材料設備：安捷倫阻抗測試儀、二次元、金相顯微鏡1000倍。材料：撓性覆銅板（銅箔：12 μm、雙面無膠ED銅，聚酰亞胺
印制電路信息 2020年7期2020-07-18
- 基于手機USB3.1應用的FPC信號傳輸研究
從不同網格設計、線寬設計，不同廠商高頻覆蓋膜對阻抗與損耗的影響變化進行研究（見表1）。1.2 試驗材料及測試設備主要試驗材料及測試設備見表2。表1 測試方法及具體項目表2 主要試驗材料及測試設備1.3 產品疊構FPC產品疊夠圖見圖1所示。圖1 FPCB產品疊構圖1.4 工藝流程開料→減銅→鉆孔→線路→AOI→覆蓋膜→阻焊→表面處理→電磁膜→激光刻→FQA2 測試結果分析3.1 不同高頻覆蓋膜Dk和Df測試將廠商A和B的高頻覆蓋膜的樣品裁切成7 cm×7 c
印制電路信息 2020年7期2020-07-18
- 激光器線寬對諧振式光纖陀螺標度因數的影響
系統中，具有一定線寬的激光器的相干長度會影響諧振腔輸出的干涉光之間的相干度，造成諧振峰的展寬，影響諧振腔的清晰度。因此，隨著激光器線寬的加寬，會使得諧振腔的諧振特性變差。為得到較好的諧振特性，以及為便于小型化應用，常使用連續可調諧的窄線寬半導體激光器作為光源。但是由于半導體激光器加工工藝的影響，其輸出并不是理想的單頻光，并且受外圍驅動電路性能和溫度漂移的影響，其線寬會發生不同程度的展寬。激光線寬的展寬制約著諧振式光纖陀螺的發展，因此定量分析半導體激光器線寬
中國慣性技術學報 2020年1期2020-06-13
- 相位調制展寬激光的線寬壓縮方法研究
出了二級相位調制線寬壓縮的構想,分析了線寬壓縮的成立條件,并根據該條件設計了激光線寬壓縮裝置。2 相位調制激光展寬原理單頻激光相位調制展寬方法[8]如圖1所示,輸入激光脈沖經加載電信號的光纖相位調制器,輸出光譜展寬的激光信號,其中展寬激光的光譜為頻率間隔與電信號頻率相同的梳狀光譜,并且相位調制器的調制強度越大,激光光譜展寬級數越多,即光譜展寬越寬,光纖放大器的SBS閾值也越高。激光光譜展寬理論分析如下。圖1 相位調制光譜展寬原理圖相位調制器輸出的光場由下式
激光與紅外 2020年1期2020-02-19
- 可調諧摻銩光纖激光器線寬壓縮及其超光譜吸收應用*
利用寬帶可調諧窄線寬光源進行吸收光譜測量的超光譜吸收技術可以在單次掃描中獲取一段連續光譜的所有吸收數據, 可大大提高可調諧二極管激光吸收光譜技術的數據信息容量和光譜診斷能力.分析了在2 μm波段對水進行超光譜吸收測量時對激光器輸出線寬的具體要求.利用摻銩光纖在2 μm波段較寬的發射譜, 采用可調諧法布里?珀羅濾波器和光纖可飽和吸收體相結合的技術方案搭建了一臺寬帶調諧窄線寬的2 μm光纖激光器.獲得了1840—1900 nm約60 nm范圍的調諧光譜輸出,
物理學報 2020年3期2020-02-16
- 頭戴式AR界面目標符號的視覺搜索實驗研究
符號的不透明度和線寬取值開展研究,通過分析被試的反應時和正確率來研究目標符號關于不透明度和線寬的取值,探討HMDs界面目標符號的不透明度和線寬對認知績效的影響.1 頭戴式增強現實系統界面針對HMDs等航電系統界面的信息呈現,國內外學者開展了相關研究,Doehler等[8]針對非固定翼戰機在大霧、粉塵、黑暗等極端環境下,對HMDs系統界面導航開展了設計研究.Ercoline等[9]針對駕駛員對頭盔顯示器符號信息的感知,依賴于單目或雙目顯示器的類型以及背景圖像
東南大學學報（自然科學版） 2020年1期2020-01-16
- 半導體芯片電路線寬顯微測量精度分析
和相位噪聲很高，線寬很寬，因而限制了其在一些領域的應用，窄線寬穩頻半導體激光器在基礎研究及高科技產品研發中都有著非常重要的應用，如光原子鐘、高分辨率激光光譜、基本物理常數測量和基礎物理研究等。關鍵詞：半導體芯片;線寬;精度1前言窄線寬激光器以其窄的輸出線寬在光通信與光探測等領域獲得了廣泛的應用。如衛星間的光互聯空地相干通信，多普勒激光冷卻原子實驗以及氣象探測激光雷達等應用均充分證明了這一點。外腔半導體激光器是一種廉價高性能的窄線寬光源，然而國內對于其線寬性
錦繡·中旬刊 2019年2期2019-10-21
- 基于多功能靜電紡絲機的實驗研究
分析2.1 纖維線寬受噴頭移動速度的影響在實驗中，噴頭移動速度設置不同梯度，依次為100cm/min、200cm/min、300cm/min和400cm/min。圖1所示為得到的納米纖維沉積形貌，圖2所示為纖維線寬受噴頭移動速度的影響，由圖1可得，在其他條件一樣時，纖維線寬隨著噴頭移動速度的增大而減小，由圖2可知纖維線寬隨著噴頭移動速度的增大由11.31μm下降到8.01μm。實驗分析得出隨著噴頭移動速度的增加，會使單位面積收集板在一定時間內沉積的溶液減少
中國金屬通報 2019年12期2019-04-26
- 超窄邊框觸摸屏功能片工藝探討
圖形。金屬區域的線寬與線距為0.012～0.024mm，比傳統工藝的0.020～0.030mm縮小約40%，同時采用微米級激光設備蝕刻，對位置公置進一步減少，達到超窄邊框的效果。關鍵詞：電容式摸屏? 超窄邊框? 功能片? 線寬中圖分類號：TP334? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?文獻標識碼：A? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 文章編號：1674-098X（2019）10（c）-0078-022012年之前，X
科技創新導報 2019年30期2019-03-08
- Excel圖形轉入CorelDRAW技巧
小、字體、字號、線寬等。將Excel圖形轉入到CorelDRAW軟件中修改比較方便，這種轉變需要一些技巧。(a) 粘貼：打開Excel文件，復制(“Ctrl+C”)要修改的圖形，在粘貼到CorelDRAW時，不是簡單的粘貼(“Ctrl+V”)，而是選擇“編輯”→“選擇性粘貼”→“圖畫(增強的圖元文件)”，然后解組就可以進行相應的修改。(b) 線寬修改：在修改過程中，還需要注意Excel形成的線寬在轉入CorelDRAW時顯示的磅值與實際線寬不相符，Exce
世界地質 2019年2期2019-02-18
- 好壞腔雙波長主動光頻標的實驗進展
被動式的,其腔模線寬一般遠大于增益線寬,輸出激光頻率主要受諧振腔腔長抖動的影響,而且超穩、超窄線寬激光器的控制系統龐大復雜、容易受外界環境干擾,鎖頻激光系統的頻率穩定度最終受限于由布朗運動導致的腔長熱噪聲,因此,如果原理上有突破,光鐘發展可能有大的飛躍。為了突破被動光頻標的限制,我們創新性的提出了主動光鐘[3-4]的概念,主動光鐘方案提出后受到了國際同行的關注,多個研究組對其進行了實驗驗證和引用,并進行了基于不同原子體系的主動光鐘方案研究[5-9]。經過實
時間頻率學報 2018年3期2018-11-09
- 移頻延時自外差法的DFB激光器線寬測量
的作用，對激光器線寬有著非常高的要求[2]。在如今的許多測試測量系統中，窄線寬的DFB激光器是非常關鍵的器件。激光器性能的強弱往往是通過對激光器的線寬值的測量來評定的，對于激光器線寬的精確測量，特別是在較窄線寬激光器線寬的測量就尤為重要。對較窄線寬激光器線寬的測量方法一般是法布里-珀羅干涉儀法與外差法等。如今激光器的線寬已經達到千赫茲量級，對于現有的較窄線寬的激光器線寬參量，上述的法布里-珀羅干涉儀法已經遠遠無法滿足精度要求[3]。光譜線寬的測量方法大致有
激光技術 2018年5期2018-11-01
- LTCC帶通濾波器中心頻率偏移的優化
測試濾波器樣品的線寬精度以及層間對位精度，使用Cyber公司的Cyberscan型激光測厚儀測試濾波器的介質層厚度，使用安捷倫公司的N9030B型頻譜儀測試濾波器樣品的微波特性。3.1.1 電感線寬參數提取對8組濾波器樣品第10層電感的線寬進行測試，測試結果如表1所示。表1 濾波器電感線寬測試結果對比由測量結果可以發現電感線寬的平均值為120μm，比濾波器模型的電感線寬小了20 μm。3.1.2 介質層厚度參數提取對8組濾波器樣品第17層的介質層厚度進行測
電子與封裝 2018年6期2018-06-25
- 激發光線寬對原子光致漂移速率的影響?
漂移而言,激發光線寬會影響原子激發的速度選擇性,進而影響漂移速率的大小,因此是光致漂移研究中不可忽視的一個影響因素.在國外已有的理論研究中,通常把激發光作為單色光進行處理,很少考慮激發光線寬對漂移速率的影響[13?19].1981年,Popov等[20]首次發表與激發光線寬相關的理論研究,但該研究是采用二能級原子模型對原子光致漂移過程進行描述,沒有考慮能級簡并與超精細能級對光致漂移的影響.柴俊杰等[21]的研究中對線寬因素的影響稍有涉及,但針對碰撞問題采用
物理學報 2018年11期2018-06-19
- 藍光LD泵浦Pr3+：YLF窄線寬脈沖激光器研究
的潛力[1］。窄線寬紅光脈沖激光具有線寬窄、峰值功率高、信噪比高、單色性好等優點，這對非線性光學的發展具有突破性進展。然而，固體激光器多縱模運轉時輸出的激光線寬可達上百GHz，難以滿足實際使用要求，因此必須通過線寬壓縮技術來克服固體激光器輸出線寬過大的固有缺陷。為了實現窄線寬激光輸出，國內外學者對窄線寬激光器進行了大量的理論和實驗研究，其中包括環形腔[3］、扭轉模腔[4］、F-P標準具法等。其中采用F-P標準具獲得窄線寬激光輸出的方法，具有結構簡單，波長可
長春理工大學學報（自然科學版） 2018年1期2018-03-29
- 吸收譜線Doppler展寬對原子多步光電離的影響
子電離率為最大的線寬值.這與已發表文獻中無Doppler展寬時的計算結果有很大不同.為了追求最佳的原子電離效果,在原子法激光同位素分離系統中激光應該盡可能地工作在最佳線寬條件下.如果激光線寬有不可控的隨機波動,在技術上讓激光線寬略大于最佳線寬更為有利.無論如何控制激光線寬,盡可能地降低原子吸收譜線的Doppler展寬都有利于原子電離率的提高.Doppler展寬,激光線寬,Rabi頻率,電離率1 引 言原子多步光電離是原子蒸汽激光同位素分離(atom vap
物理學報 2017年19期2017-10-23
- 數字
激光器盡可能縮窄線寬是激光研究的目標之一?，F在，德國的研究人員已經開發出了世界上最小線寬的激光器，其線寬僅為0.01赫茲。來自德國聯邦物理技術研究院（PTB）和美國天體物理聯合實驗室（JILA）的科學家共同研發的新型激光器，除了具有0.01赫茲的極小線寬，其光波還能持續11秒保持穩定，此時光束約延伸330萬千米，約是地月距離的10倍。研究人員正在利用這種極小線寬的新型激光器來制造更準確的原子鐘，并對超冷原子進行更精確的測量。研究人員認為，通過調整反射鏡的組
知識就是力量 2017年8期2017-08-23
- PCB線圈的電參數對諧振頻率的影響探究
。分別對層間距、線寬與層間距、線圈中心距對諧振頻率的影響兩組實驗進行了分析。得出的結論是：在層間距固定不變的情況下，隨著線寬的不斷增加，諧振頻率是逐漸減小的；但當諧振頻率減小到一定程度時，則不再發生變化。在線寬固定不變的情況下，隨著層間距值的不斷增大，諧振頻率的值也是不斷增大的，且增長是越來越緩慢的。在層間距固定不變的情況下，隨著線圈中心距的不斷增加，諧振頻率是逐漸增大的；增大的趨勢是越來越明顯的。在線圈中心距固定不變的情況下，隨著層間距值的不斷增大，諧振
電子技術與軟件工程 2016年16期2017-03-17
- 5um線寬LED晶片最佳光刻條件探究
份有限公司5um線寬LED晶片最佳光刻條件探究鄒賢軍，廖穎鈺 湘能華磊光電股份有限公司摘要：在外延結構已經確定的前提下，如何在芯片前工藝COW制備中提高亮度成為各芯片廠商最關注的話題，而制備反射電極、增加電流阻擋層、優化圖形、縮短線寬則是提高COW亮度的常用方法。本文主要探究尺寸為457um*889um的芯片在制備5um線寬時黃光作業中的最佳光刻條件，實驗表明硬烤110°/60秒，曝光能量90mj/cm2，顯影時間90秒，膠厚2.85um，軟烤105℃/
科學中國人 2016年17期2016-08-31
- 納米CL-20炸藥含能墨水的直寫規律
水黏度增大，直寫線寬減小且減小幅度增大，但黏度過度偏大時，會影響直寫線寬的均勻性，配方I在噴頭高度為0.50mm和0.75mm時，以及配方III在噴頭高度為0.75mm時，均出現了線寬不均的現象；配方II直寫線寬穩定更適合直寫裝藥。隨著噴管壓力的增大，CL-20油墨的打印線寬明顯增加，且對于不同針頭直徑和不同配方墨水壓力大小變化相同，線寬的增幅基本相同，當壓力由100kPa增加到200kPa，線寬增大約2.5倍。隨著噴頭內徑的增大，油墨的直寫線寬明顯增大，
火炸藥學報 2016年1期2016-03-29
- 填充輔助多晶硅圖形的參數成品率版圖優化
化中最為重要的是線寬變化，尤其是多晶硅柵線寬，即MOS管的溝道長度.MOS管溝道長度是影響MOS管性能的主要參數，由于多晶硅線寬最小，最容易引起變化，由工藝波動引起的多晶硅寬度變化指的就是MOS管溝道長度的變化.MOS管溝道長度變化會影響MOS管的工作速度以及亞閾值電流，由此對電路時序和亞閾值電流引起的靜態功耗產生影響，導致參數成品率下降［4-6］.在納米工藝中，參數成品率已成為影響芯片成品率的主要因素［7-10］.導致MOS管溝道長度發生變化的最主要原因
浙江大學學報（工學版） 2015年12期2015-07-11
- 一種新型窄線寬摻鉺光纖激光器
1 引言單縱模窄線寬光纖激光器因其線寬千赫茲量級的長相干長度光源，在密集波分復用系統、通信系統、分布式光纖傳感器等方面有重要的應用價值［1－4］。單頻窄線寬激光的獲得，需要通過設計腔形的結構來消除多縱模振蕩，抑制跳模，并對激光進行線寬壓縮，以獲得窄線寬激光輸出。國內外的研究表明采用超短線形腔結構，增大縱模間距，可獲得單頻激光輸出［5－6］，但超短線形腔的制作工藝復雜。在激光腔內加入可飽和吸收體，可抑制跳模，獲得單頻激光［7－8］，例如，魏興春等采用作為可飽
激光與紅外 2015年5期2015-03-29
- 隨機噪聲對海洋布里淵激光雷達測量的影響
6dB時，頻移和線寬的平均誤差和不確定度能夠控制在兆赫茲量級，溫度誤差和不確定度能夠控制在0.2℃以內；采用實際應用中多次測量取平均的方法，10次平均能夠保證0.2℃的測量精度對信噪比的要求下降到7dB。這為激光雷達在海水高精度遙感提供了指導。關鍵詞：激光技術；海洋布里淵散射；隨機噪聲；頻移；線寬；溫度；測量誤差*通訊聯系人。E-mail:liangkun@hust.edu.cn引言采用布里淵散射信號檢測技術進行海洋探測始于20世紀 60 年代。隨著激光及
激光技術 2015年1期2015-02-26
- 真空二流體制作35 μm/35 μm細線路的研究
獲得集中度更高的線寬&更高的蝕刻因子。細線路；真空二流體蝕刻1 前言細線路的需求與電子產品的發展息息相關。隨著電子產品輕、薄、短、小的進一步發展，線路的發展也到了一個前所未有的高度：40 μm/40 μm的細線已經應用在高端HDI產品，進入小批量生產；35 μm/35 μm、甚至30 μm/ 30 μm的線路也在研究中。但現有的DES工藝到底可以制作到多細的線路？對于這個問題業界顯然沒有一個統一的答案。本文展開的研究就是想嘗試一下：采用DES工藝搭配真空二
印制電路信息 2015年3期2015-02-05
- 基于線寬測量的增材制造流量智能控制方法
本文提出一種基于線寬測量的增材制造流量的智能控制方法，通過傳感器反饋的實際線寬對工作臺位移速度和噴頭流量的相對關系進行控制，從而實現漿料的精確控制，提高實體模型或支架形狀的成形精度。1 開環低溫成形機的缺點目前開環的低溫成形機主要存在掃描線斷裂及掃描線過堆兩大缺點。1.1 掃描線斷裂低溫成形機在制備支架過程中噴頭擠出漿料流量過小或帶動噴頭的掃描電機速度過快時，噴頭擠出的材料還未跌落粘結，就被拉走，造成填料不足，絲料斷裂，導致漿料在設備的工作臺上留下的掃描線
杭州電子科技大學學報(自然科學版) 2014年4期2014-12-02
- 平面S 型等線寬與漸變線寬微彈簧彈性系數分析
用下,平面S型等線寬微彈簧的彈性系數理論計算公式。平面S型等線寬微彈簧在慣性力作用下,彈簧彈性系數從其固定錨點處隨著單元節數遞增而遞增,彈簧單元位移量隨節數的遞增而減小。為了防止錨點處彈簧單元因形變量過大導致微彈簧失效,本文提出漸變線寬彈簧并推導了其彈性系數計算公式。同時解決了文獻[11]中“同一彈簧的不同節線寬不一樣對彈簧剛度的影響”的問題。1 平面微彈簧應用環境當平面微彈簧所受載荷為外界集中力(即等效作用于彈簧自由端的質點力)時,集中力對其任一彈簧單元
機械制造與自動化 2014年6期2014-09-19
- 阻抗±5%公差影響因素分析與探討
下幾點：內/外層線寬、層壓半固化片介厚、電鍍銅厚、油墨厚度、進行控制，使最終實現阻抗值+5% Ω控制；經過與PCB實驗、研究和實際控制經驗并結合CITS27和Si8000軟件的使用，我對這個問題有了一些粗淺的認識，愿和大家分享。2 阻抗信號傳輸線類型最通用的傳輸線類型：微帶線（microstrip）和帶狀線（stripline）。（1）微帶線：指在 PCB外層的線和只有一個參考平面的線，有非嵌入/嵌入兩種；如圖1、圖2。圖1 非嵌入(我們目前常用)圖2 嵌
印制電路信息 2014年4期2014-05-31
- 堿蝕流程精細線路板件線寬補償規則的改善研究
流程精細線路板件線寬補償規則的改善研究Paper Code: S-132林偉娜 （汕頭超聲印制板公司，廣東 汕頭 515041）文章主要是通過試驗及Cpk計算評估精細線路板件在堿蝕流程中的加工情況，找出不同蝕銅厚度、不同線路類型及不同線路走向之間的線寬補償規律，從資料制作上改善受圖形分布或平板加厚導致線細與蝕不凈矛盾，降低生產難度，提高板件加工穩定性。堿蝕；CPK計算；精細線路；線寬補償規律；加工穩定性1 前言對于高多層及細線路板件在外層堿蝕制作過程中，受
印制電路信息 2014年4期2014-05-04
- 淺談內層411.6μm底銅制作工藝
越高，在縮小線路線寬的同時又要提高線路電流的承載力，只能是相應的提高線路的銅厚，一般的內外層的線路銅厚大于102.9 μm即稱為厚銅板，其主要特點：承載大電流，減少熱應變和散熱，主要應用于高端電源線路板及大功率設備電路板，本文主要通過試驗介紹一種內層411.6 μm（12 oz）高厚底銅的生產作業方式，確認411.6 μm銅厚內層蝕刻的線路補償以及制作能力。2 試驗設置（1）選擇銅厚為411.6 μm的基材2PNL；（2）對原稿設計不同三組補償0.2 mm
印制電路信息 2014年10期2014-01-13
- 基于半導體外腔激光器的光反饋研究﹡
的基礎上，分析了線寬因子、外腔反饋強度以及反饋電場相位等因素對外腔半導體激光器的穩定性影響，同時認為激光器只有在其振蕩頻率在更低的激光器閾值增益下，才能穩定運行[10-11]。所以對其閾值增益和窄線寬特性的研究顯得很有必要。從理論上討論外腔半導體激光器的閾值特性和窄線寬機制，并進行數值模擬分析。1 Littrow型外腔半導體激光器典型的Littrow型外腔半導體激光器[12]結構如圖1所示。外腔半導體激光器輸出的激光經透鏡準直后，入射至光柵處發生衍射，產生
通信技術 2013年6期2013-10-31
- 溫控體布拉格光柵外腔單管半導體激光器
)具有波長穩定、線寬窄等優點［1］，在半導體激光泵浦堿金屬激光器(diode pumped alkali laser，DPAL)中得到了廣泛的應用［2］。堿金屬激光器的增益介質主要為鉀(K)、銣(Rb)、銫(Cs)蒸氣，泵浦光波長分別為766 nm，780 nm，852 nm。為了提高堿金屬激光的效率，通常采用外腔技術對現有的普通商用半導體激光器進行線寬壓窄。相對于平面光柵線寬壓窄技術，體布拉格光柵用于線寬壓窄時具有功率損失少、結構簡單等優點，是目前堿金屬
激光與紅外 2013年5期2013-03-20
- PCB線寬最大最小值的檢測算法
有限公司1 引言線寬檢測主要是對PCB線路板導線缺陷的檢測。印刷電路板（PCB）作為集成各種電子元器件的信息載體，在各個領域得到了廣泛的應用[1]。而電子產品趨于更輕、更薄、更多功能化，也使得PCB 制造技術朝向更高密度發展，使得單位面積和單位體積PCB板的線路越來越多；而隨著線路板行業的發展，國內外客戶對線路板產品的要求越來越高，因此檢測技術領域對線寬的檢測，不再僅限于傳統檢測線寬的平均值，還需要測量出線寬的最大值和最小值。本文將對線寬的最大值和最小值檢
印制電路信息 2012年1期2012-08-15
- Narrow linewidth Erbium-doped photonic crystal fiber laser?
r圖1 全光纖窄線寬摻鉺光子晶體光纖激光器示意圖The cross-section micrograph of Er-doped PCF is shown in Fig 2 and has a similar hexagonal holey clad.The core diameter of used PCF is 3.34 μm with numerical aperture of 0.143 and the mass fraction of Erbiu
深圳大學學報（理工版） 2011年5期2011-11-26
- PCB線寬檢測設備的發展現狀與趨勢
08）1 PCB線寬/間距的發展現狀世界通訊電子產品在向多功能化、小型化、輕量化的方向發展，致使印制電路板從過去的孔插裝技術（THT）階段，全面走上了當前的表面貼裝技術（SMT）階段和芯片級封裝（CSP）階段，將來還將走向系統封裝（SIP）階段。近幾年來，多層板、撓性板、剛撓結合板、高密度互連（HDI）板、IC封裝板（BGA、CSP）、特種印制板（高頻板、金屬基板、陶瓷基板和厚銅箔板）等PCB品種已成為主要的增長點。因此國內外未來印制板生產制造技術正向高密
印制電路信息 2011年7期2011-07-30
- Auto CAD中打印機線型配置及應用實例
進行配置，選擇好線寬（根據本人調查、使用經驗，細線寬選擇0.25mm，粗線寬選擇0.40mm即可）。單擊“保存并關閉”，線型配置完成。2 實際應用按照圖線GB4457.4—1984中的規定，假定粗實線、粗點劃線線寬為b，則其他線型線寬約為b/3。而在計算機輔助制圖中，這樣的設置就顯的不是很合理，如果細實線的線寬為0.25 mm，按規定，粗實線的線寬應選0.75 mm，而我們在實際應用中只需設置為0.4 mm就能夠滿足視覺要求了。假如按規定執行的話，就會造成
科學之友 2010年15期2010-06-13