王昆
摘 要:氧化鈦膜層具有較高的折射率和出色的紫外吸收特性,廣泛應用于UV/IR Cut濾光片的制備中。但是在TiO2/SiO2多層膜的制備中常常遇到霧度偏高的困擾,本文采用離子輔助沉積技術制備TiO2/SiO2多層膜,研究分析了相關工藝參數對沉積膜層霧度的影響,能夠制備出較低霧度的薄膜樣品。
關鍵詞:氧化鈦;濾光片;離子輔助沉積;霧度
氧化鈦作為光學薄膜材料應用廣泛,其透射波段位于400nm-12μm范圍,該波段內具有出色的機械特性和光學特性。氧化鈦折射率2.2~2.7,可作為一種良好的高折射率材料,但當λ<400nm時,其吸收特性極強。因此,基于其出色的高折射率和紫外吸收特性,在紅外波段濾光片制備方面具有很好的應用效果,可廣泛應用于投影儀、數碼相機濾光片上。采用TiO2/SiO2多層膜系結構設計,可大幅度降低濾光片的制備成本,同時又具有很好的機械性能[ 1-3 ]。
采用該膜系結構的濾光片常常在制備中遇到霧度較高的情況,特別是對樣品透明性能要求嚴格的情況,很難滿足特性需求。本文基于離子輔助薄膜沉積技術,通過大量實驗研究分析,得到離子源能量、沉積溫度等多項工藝參數對沉積膜層霧度的影響,并提出部分改進設想。
1 實驗
1.1 實驗設備
實驗采用日本OPTORUN生產的OTFC-1800DBI離子束輔助成膜設備,離子源為(RF)23cmOIS-3型,基板玻璃采用BG62(藍玻璃),膜層散射通過NHD5000進行測量。
1.2 實驗參數
實驗采用離子輔助沉積技術,工藝參數設計如表1所示。
2 結果與分析
2.1 實驗結果
實驗樣品散射檢測結果如表2所示,圖中數據均為霧度。